当社は20年以上の経験と実績を基に、半導体産業や一般工業向けに多種にわたるドライポンプをご提供しております。これからもお客様のご要求にお応えすべく、製品開発に努めてまいります。

ターボ分子ポンプは半導体製造、高エネルギー物理学など、先端技術分野の発展に、いまや欠かすことの出来ない最重要真空コンポーネントです。多様化する半導体・LCDの製造装置（エッチ、CVD、PVD、イオン注入、蒸着等）プロセスにおいて、市場稼動実績No1の当社では、超精密加工技術・超高速回転技術・磁気軸受技術などの先端技術をベースに超高真空や大量排気を実現するターボ分子ポンプを世界のお客様にご提供しております。

クリーンな高真空ポンプとプッシュ・ボタン操作の便利さによって、ターボ・ポンプは人気の高いシステム・ソリューションになっています。弊社は完全磁気浮上式、およびハイブリッド構造（磁気＋オイルベアリング）の製品を販売しています。

当社の直結型ロータリポンプは、排気速度15L/minから5000 L/minまでの幅広いレンジを揃えています。当社は近代的量産設備のコンピュータコントロールマシニングセンターを備え、部品製作から中間検査・組立・最終検査まで一貫したプロセスで行い、常に信頼性の高いポンプを世界各国に供給しています。

オイルフリースクロールドライポンプ - ロータリポンプの代わりとなる進んだポンプ技術でよりクリーンな真空環境を実現します。XDSは35m³/hまで、ESDP & GVSPは30m³/hまでのサイズを取り揃えております。

当社のメカニカルブースタポンプは、単純なルーツ原理を基礎にしているため、圧力範囲が0.1から1000 Paまでの高速排気を必要とするアプリケーションにおいて多くのユーザーから好評いただいております。

当社の拡散ポンプは多様なポンプとアクセサリを取り揃えている為、広範なアプリケーションに適します。科学分野向け小型拡散ポンプは、計測機器や一般的な研究開発用に設計されています。工業用HTシリーズは真空冶金、蒸留、コーティングなどのアプリケーションに最適です。