当社は20年以上の経験と実績を基に、半導体産業や一般工業向けに多種にわたるドライポンプをご提供しております。これからもお客様のご要求にお応えすべく、製品開発に努めてまいります。
iGX100シリーズドライポンプは、クリーン、ライト、ミディアムプロセス用に開発され、小型で優れた信頼性と低いコストオブオーナーシップをご提供致します。
・M タイプ メタルエッチ、インプラ(ソース) ・N タイプ ポリシリコンエッチ、酸化膜エッチ、PVD、RTA、アッシング、リソグラフィ ・L タイプ ロードロック、トランスファ
iH シリーズドライポンプは、PECVD、LPCVD、メタルエッチングなどの、凝縮性及び腐蝕性の副生成物を発生するハーシュプロセスの排気に、高い信頼性と低いコストオブオーナーシップをご提供致します。
SEM、ロードロック、トランスファ チャンバ、アッシング、PVDスパッタ、酸化膜エッチング、インプラ(ビーム/ターゲット)、インプラ(ソース)、メタル/ポリエッチング、PECVD、LPCVD
GXシリーズはクリーン、ライトプロセス用に開発された小型でランニングコストの低いドライポンプです。
・N タイプ ポリシリコンエッチ、酸化膜エッチ、PVD、RTA、アッシング、リソグラフィ ・L タイプ ロードロック、トランスファ
EPX高真空ドライポンプは小型で低振動さらにランニングコストが低く、大気から高真空領域までの連続排気が可能です。
装置内蔵ポンプとしてトランスファーチャンバ排気や高真空排気
GVシリーズは、様々な工業用アプリケーションにおいて確実かつ経済的な運転を実現するように設計されたドライ真空ポンプです。
真空蒸着・スパッタリング、結晶成長、真空冶金、凍結乾燥、宇宙開発、真空チャック、その他真空排気