ターボ分子ポンプは半導体製造、高エネルギー物理学など、先端技術分野の発展に、いまや欠かすことの出来ない最重要真空コンポーネントです。多様化する半導体・LCDの製造装置(エッチ、CVD、PVD、イオン注入、蒸着等)プロセスにおいて、市場稼動実績No1の当社では、超精密加工技術・超高速回転技術・磁気軸受技術などの先端技術をベースに超高真空や大量排気を実現するターボ分子ポンプを世界のお客様にご提供しております。
完全磁気浮上式STP ターボ分子ポンプUHVおよびL シリーズは、全翼回転翼を搭載した超高真空対応のターボ分子ポンプです。
電子顕微鏡、表面分析装置、質量分析装置、加速器、核融合実験装置、半導体製造装置(イオン注入、ドライエッチ、MBE)
完全磁気浮上式STP ターボ分子ポンプH およびAシリーズは、複合翼回転翼を搭載したハイスループット対応のターボ分子ポンプです。
半導体/LCD製造装置(ドライエッチ、CVD、スパッタ、イオン注入)
最大流量を同等クラスTMPの3〜4倍にし、ウエーハの大口径化によるガス流量の増加に対応したハイフローターボ分子ポンプです。STP-FやXAシリーズ はポンプ台数減少による真空部品の削減、クリーニング時のバイパスライン削減によるパーティクル発生防止が可能となり、低コストオブオーナーシップにお応えします。
低振動と少スペース化を追求したコントローラ一体型の最新型磁気浮上ターボです。
電子顕微鏡、表面分析・検査装置、質量分析装置、加速器、MBE装置