
総合的なラインアップ
エドワーズは最も幅広い製品レンジの排ガス処理テクノロジを提供する総合メーカーであり、低コストの設備管理から完全な環境保護に至るまで、あらゆる顧客ニーズを満たすように設計された一連の製品とシステムを取り揃えています。お客様のアプリケーション・ニーズにマッチする排ガス処理システムをご提供することに全力を傾注しています。弊社は、信頼性を高め、メンテナンス間隔を延ばし、設置面積とユーティリティを低減し、廃棄物の発生を抑制する革新的な設計を導入しつつ、ランニングコストの低減に努力しています。弊社製品の多くは各種プロセス装置に適合します。
排ガス処理装置の選択
お客様は、エドワーズの豊富な製品群からご使用のプロセスに最適でポイント・オブ・ユース処理の排ガス処理装置を選択できます。またエドワーズは特定のアプリケーションに適した排ガス処理製品の選定に経験とノウハウをご提供致します。
最先端の製造技術
弊社の主要製造施設は、英国クリーブドンにあります。製造サイトは、柔軟な製造ラインを備える工場、組み立てフィード・セル、看板方式の製造技術、および世界最大の排ガス処理研究センターから成ります。さらに八千代工場(日本)とチュナン工場(韓国)がグローバルな生産体制を補完しています。 弊社の製造工程全体の根底には、品質と世界水準の製造基準に対する献身があります。TQM と「Kaizen」手法によって裏打ちされたISO 9001 およびISO 14001 管理システムが工程のコアにあります。製品の関連国際基準による証明は、独立した外部試験機関であるITSが行います。
燃焼式排ガス処理装置
CVD プロセスに要求される効果的な排ガス処理装置は、製膜用プロセスガスと反応副生成物(固形物)の処理が可能でなければなりません。また地球温暖化係数の高いフッ素系クリーニングガスも適切な処理が必要です。排ガス処理装置はそうした条件を1台の完全なユニットで満たす事を要求されています。
・ TPU(サーマル・プロセシング・ユニット)は、CVD 用のもっともポピュラーな排ガス処理装置です。1つのモデルで全CVD と多くのエッチング・アプリケーションに適します。各インレットをすべての地球温暖化PFCガス、F2、またはCIF3 の高水準の排ガス処理用に使用できます。TPU は200 slm までの合計インレット流量に対応できます。PFC が使用されない場合は、TCS(サーマル・コンディショニング・システム)が有害なフッ素系排ガスと製膜プロセスガスの両方を処理する費用対効果に優れた手段となります。
・AtlasはTPUの優れた特色をそのままに、燃料消費量の低減、水消費量の低減、メンテナンス性の改善等、TPUの除害性能はそのままに、大きな改善を図った最新型燃焼式排ガス処理装置です。
・Heliosは、TPU およびTCS 製品レンジに共通の放射燃焼式コンバスタによって大流量の水素ベースガスを処理するための高度なソリューションです。このシステムは、低圧エピタキシとMOCVD プロセスからの有毒ガスおよびキャリヤガスの両方を処理するよう設計されています。
・Kronisは放射燃焼式コンバスタを持つモデルです。Kronisは特にlow-k CVD プロセスの排気を効果的に処理します。
・Mistralは、燃料ガスを使用せずに加熱酸化処理を行うシステムです。革新的な抵抗加熱式酸化ユニットと、実績ある3 段ステージの湿式スクラバにより、燃料ガス用設備のない施設においてCVD プロセスの汚染除去に優れた性能が発揮されます。
化学反応式排ガス処理装置
エドワーズは、半導体プロセス用に低コストのポイント・オブ・ユースの乾式排ガス処理システムを各種取り揃えております。各システムは、GRC(ガス・リアクタ・カラム)用に開発された独自のホット・ベッド・リアクタ・テクノロジを利用しています。 GRC は、エッチング排気用の乾式排ガス処理システムの中で最も優れた性能を持っています。ハロゲンや酸からCIF3、NF3、SF6、その他のハロゲン化物エッチング化合物までの多様なガスを安定した不活性塩への化学反応による処理を行います。
・D150デュアルGRC は、デュアル・カートリッジ構成のため、100% の稼働時間でダウンタイムを最低化します。
・M150シングルGRC は、有害なエッチングおよびCVD排ガスおよび副生成物を除去するための小型乾式排ガス処理システムです。これらの排ガス処理を交換が容易な使い捨てカートリッジ内で無害の固体に変換します。
Zenith(真空ポンプおよび排ガス処理の統合システム)
真空ポンプと排ガス処理装置は従来、プロセス装置の下流に並べて取り付けていました。Zenithの製品レンジは、多様なアプリケーションからのプロセス排ガスを安全に処理するように1つのユニット(真空ポンプと排ガス処理システム) 設計されました。安全性の向上、プロセス装置との互換性、最低限の設置面積、ランニングコスト低減が弊社の独自アプローチから得られる主なメリットであり、その結果、稼働時間、プロセス効率、および収益が向上します。
TMS 温度管理システム
エドワーズは、凝縮性固形物を伴うプロセス用にTMS(温度管理システム)をご提案しております。TMSによって、排ガス処理装置に入るまでそうした化合物が気体の状態で維持されます。TMSはフォアラインと、ポンプ排気ラインから排ガス処理装置のインレットまでの配管を加熱するよう設計されています。表面積の大きいモールドヒータが配管を効率的に加熱し、配管の温度を90〜150℃で維持します。TMSによるモニタリングは、ラインが十分な温度に達しているかをローカルとリモートの両方で確認が可能なオプションとして設定されています。TMSは、副生成物の堆積とそれに関連する従来の不具合を軽減するために、エドワーズのあらゆる排ガス処理装置と共に使用され、多くの実績を持っています。
プロセス推奨事項
排ガス処理装置の選定は、主に2 つの要因によって決められます。 それらは、使用される一般的なプロセスとその処理に求められる度合いです。次に、会社の方針と地域や国の規制、初期費用およびランニングコストといった他の変数が選択に影響を及ぼします。 弊社のアプリケーション・ガイドは、具体的な半導体製造プロセスに応じた適切な製品タイプの選定と、排ガス処理製品群の中からどれを選択すべきかに役立つよう考案されています。
プロセス |
|
プロセスガス例 |
副生成物/問題点 |
推奨除害装置 |
Etch |
Metal |
Cl2 / BCl3 / SiCl4 |
排気配管の閉塞 |
GRC(TMS付き) |
CHF3 / SF6 |
有機塩素化合物による毒性と腐蝕性 |
Poly |
HBr / Cl2 / NF3 / SF6 |
高い腐蝕性と強い毒性 |
GRC(TMS付き) |
Oxide |
CHF3 / NF3 / CF4 |
毒性と腐蝕性 |
TPU / TCS / GRC |
C2F6 / C4F8 |
地球温暖化ガス |
Nitride |
SF6 / CF4 / CHF3 |
毒性と腐蝕性 |
TPU / TCS / GRC |
地球温暖化ガス |
Tungsten |
Cl2 / SF6 / CF4 / BCl3 |
固形物 |
GRC(TMS付き) |
PECVD |
Oxide |
TEOS / TMB / TMP / N2O |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC |
C2F6 / NF3(clean) |
液体ソース、固形物の堆積 |
|
地球温暖化ガス |
BPSG |
TEOS / TRB / TEPO |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC(TMS付き) |
C2F6 / NF3(clean) |
液体ソース、固形物の堆積 |
|
地球温暖化ガス |
Oxide / Nitride |
SiH4 / NH3 / N2O |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC |
C2F6 / NF3(clean) |
地球温暖化ガス |
Nitride |
SiH4 / NH3 |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC |
CF4 / N2O(clean) |
地球温暖化ガス |
Tungsten |
SiH4 / WF6 |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC(TMS付き) |
C2F6 / O2(clean) |
地球温暖化ガス |
Tangsten |
SiH4 / WF6 |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC |
NF3(clean) |
地球温暖化ガス |
Tangsten |
SiH4 / WF6 |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / GRC |
ClF3(clean) |
地球温暖化ガス |
LPCVD |
Nitride |
PCS / NH3 |
毒性/可燃性ガス |
MGRC+Aカートリッジ |
排気配管の閉塞 |
Poly |
SiH4 / PH3 |
高い毒性/可燃性ガス |
TPU / TCS / GRC |
Poly |
SiH4 / PH3 / AsH3 |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / TCS / GRC |
ClF3(clean) |
きわめて反応性の高いガス |
Oxide |
TEOS |
毒性ガス、固形物の生成 |
TPU / GRC |
Doped oxide |
TEOS / TEAs |
毒性ガス、固形物の生成 |
TPU / TCS / GRC |
Doped oxide |
TEOS / TEAs |
可燃/支燃性ガス混合 |
TPU / GRC |
ClF3(clean) |
きわめて反応性の高いガス |
Inplant |
|
BF3 |
毒性ガス |
GRC |
|
BF3 / PH3 |
高い毒性/可燃性ガス |
GRC+Rカートリッジ |
|
BF3 / PH3 / AsH3 |
高い毒性/可燃性ガス |
GRC+JVカートリッジ |